[实用新型]一种红外截止滤光片有效

专利信息
申请号: 201320076008.7 申请日: 2013-02-19
公开(公告)号: CN203164464U 公开(公告)日: 2013-08-28
发明(设计)人: 奂微微;黄兴桥 申请(专利权)人: 东莞五方光电科技有限公司
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;G02B1/10
代理公司: 东莞市冠诚知识产权代理有限公司 44272 代理人: 何恒韬
地址: 523000 广东省东莞*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种红外截止滤光片,涉及滤光片技术领域。本实用新型包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的34层膜,该34层膜由高折射率的二氧化钛TiO2膜层和低折射率的二氧化硅SiO2膜层多次堆叠组成。本实用新型的膜层为较少的34层,在700-1100nm红外光波段具有极低的红外光透过率,其红外光透过率整体小于0.5%,而在380-640nm可见光波段,则不影响可见光透过,本实用新型具有极高的光学性能,能广泛应用于可拍照手机摄像头、电脑内置摄像头、汽车摄像头,以及高像素摄像头等数码成像领域。
搜索关键词: 一种 红外 截止 滤光
【主权项】:
一种红外截止滤光片,其特征在于:包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的34层膜,该34层膜由高折射率的二氧化钛TiO2膜层和低折射率的二氧化硅SiO2膜层多次堆叠组成,该34层膜从内至外依次为:第1层,TiO2膜层,厚度为11‑11.3nm;第2层,SiO2膜层,厚度为34.8‑35nm;第3层,TiO2膜层,厚度为111‑111.3nm;第4层,SiO2膜层,厚度为171.5‑172nm;第5层,TiO2膜层,厚度为110‑110.4nm;第6层,SiO2膜层,厚度为179‑179.3nm;第7层,TiO2膜层,厚度为112.5‑113nm;第8层,SiO2膜层,厚度为178‑178.49nm;第9层,TiO2膜层,厚度为113‑113.4nm;第10层,SiO2膜层,厚度为180.5‑181nm;第11层,TiO2膜层,厚度为112.5‑112.8nm;第12层,SiO2膜层,厚度为179‑179.4nm;第13层,TiO2膜层,厚度为113.5‑114nm;第14层,SiO2膜层,厚度为178.5‑179nm;第15层,TiO2膜层,厚度为111‑111.3nm;第16层,SiO2膜层,厚度为176.5‑177nm;第17层,TiO2膜层,厚度为107.5‑107.8nm;第18层,SiO2膜层,厚度为162.5‑162.8nm;第19层,TiO2膜层,厚度为91‑91.3nm;第20层,SiO2膜层,厚度为145‑145.4nm;第21层,TiO2膜层,厚度为86‑86.4nm;第22层,SiO2膜层,厚度为140‑140.3nm;第23层,TiO2膜层,厚度为83.5‑84nm;第24层,TiO2膜层,厚度为138‑138.49nm;第25层,SiO2膜层,厚度为83‑83.3nm;第26层,TiO2膜层,厚度为137.5‑138nm;第27层,SiO2膜层,厚度为82.5‑83nm;第28层,TiO2膜层,厚度为138.5‑139nm;第29层,SiO2膜层,厚度为83‑83.4nm;第30层,TiO2膜层,厚度为139.6‑140nm;第31层,SiO2膜层,厚度为85‑85.4nm;第32层,TiO2膜层,厚度为145.5‑146nm;第33层,SiO2膜层,厚度为85.5‑86nm;第34层,TiO2膜层,厚度为70.5‑71nm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东莞五方光电科技有限公司,未经东莞五方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201320076008.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top