[实用新型]一种抑制流场畸变的均流装置有效

专利信息
申请号: 201320118493.X 申请日: 2013-03-15
公开(公告)号: CN203130283U 公开(公告)日: 2013-08-14
发明(设计)人: 赵世红;孙纪国;许晓勇;田原;李丹琳;丁兆波;高翔宇;刘红珍;王召;程鹏;王维彬;乔桂玉 申请(专利权)人: 北京航天动力研究所
主分类号: F02K9/80 分类号: F02K9/80
代理公司: 核工业专利中心 11007 代理人: 高尚梅
地址: 100076 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型属于一种管路均流装置,具体公开一种抑制流场畸变的均流装置,所述的均流装置为圆板形,所述的均流装置沿其径向布置多圈圆孔,所述的每圈圆孔的数量为多个。本实用新型的均流装置能够降低管路流场的径向畸变,提高流场的均匀性。
搜索关键词: 一种 抑制 畸变 装置
【主权项】:
一种抑制流场畸变的均流装置,其特征在于:所述的均流装置(1)为圆板形,所述的均流装置(1)沿其径向布置多圈圆孔,所述的每圈圆孔的数量为多个。
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