[实用新型]一种改进结构的电弧靶及其控制系统有效
| 申请号： | 201320120616.3 | 申请日： | 2013-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN203174195U | 公开（公告）日： | 2013-09-04 |
| 发明（设计）人： | 董小虹;张中弦;梁航;黄拿灿;亚历山大·哥罗沃依 | 申请（专利权）人： | 广东世创金属科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 广州广信知识产权代理有限公司 44261 | 代理人： | 张文雄 |
| 地址： | 510450 广东省广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种改进结构的电弧靶及其控制系统，包括真空室(1)、引弧电极(2)、靶材(3)、弧电流源(4)和冷却装置(5)，引弧电极(2)设在靶材(3)上并连通引弧电路连接端(11)，所述引弧电路连接端设在真空室(1)外壳上，靶材通过靶座(3-1)安装在真空室内，其特征在于：靶材(3)呈圆锥状或截头圆锥状，冷却装置(5)直接与靶座(3-1)连接、构成对靶材的直接冷却结构；在靶座(3-1)的外表面设有挡圈(6)、以防止弧斑烧蚀靶座(3-1)及冷却装置(5)；在真空室(1)的外表面设有用于稳定电弧的磁场可调式环形电磁线圈(7)、以稳定电弧，环形电磁线圈(7)的输入端连接直流电源(8)。本实用新型具有靶材利用率高、连续运行时间长、离子离化率高的有益效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改进 结构 电弧 及其 控制系统 | ||
【主权项】：
一种改进结构的电弧靶，包括靶桶(1)、引弧电极(2)、靶材(3)、弧电流源(4)和冷却装置(5)；所述靶桶(1)安装在涂层设备的真空室(12)上，引弧电极(2)设在靶材(3)上并连通引弧电路(11)；所述引弧电路(11)连接端设在靶桶(1)外壳上，靶材通过靶座(3‑1)安装在靶桶(1)内，其特征在于：靶材(3)呈截头圆锥状，冷却装置(5)直接与靶座(3‑1)连接，构成对靶材的直接冷却结构；在靶座(3‑1)的外表面设有灭弧圈(6)，以防止弧斑烧蚀靶座(3‑1)及冷却装置(5)；在靶桶(1)的外表面设有产生电磁场用于稳定电弧弧斑的可调式环形电磁线圈(7)，环形电磁线圈(7)的输入端连接直流电源(8)。
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