[实用新型]原子层沉积装置有效
| 申请号： | 201320122884.9 | 申请日： | 2013-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN203159709U | 公开（公告）日： | 2013-08-28 |
| 发明（设计）人： | 吉田武史;石塚勇史 | 申请（专利权）人： | 株式会社昭和真空 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44;C23C16/52 |
| 代理公司： | 北京市浩天知识产权代理事务所 11276 | 代理人： | 宋菲;刘云贵 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本实用新型提供原子层沉积装置。其具有光特性测定装置（41）和ALD成膜室。光特性测定装置（41）具有电源（42）、探头（43）、测定装置（44）、承载台（45）和控制部（48）。探头（43）为接受来自发光装置（10）的光的受光体。测定装置（44）测定探头（43）接受的光的同时，输出作为测定结果的色度。控制部（48）控制光特性测定装置（41）的动作整体。 | ||
| 搜索关键词： | 原子 沉积 装置 | ||
【主权项】：
原子层沉积装置，其特征在于，具有：搭载发光装置的承载台，测定所述发光装置的色度的光特性测定装置，具备排气装置的反应容器，以及向所述反应容器的内部供给原料气体的第1给气部。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
