[实用新型]一种带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统有效
| 申请号： | 201320129549.1 | 申请日： | 2013-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN203136340U | 公开（公告）日： | 2013-08-14 |
| 发明（设计）人： | 何公明 | 申请（专利权）人： | 宁波东盛集成电路元件有限公司 |
| 主分类号： | H05K3/00 | 分类号： | H05K3/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 竺路玲 |
| 地址： | 315800 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统，其中，包括：印刷装置、曝光装置、显影装置、蚀刻装置、清洗装置，曝光装置分别与印刷装置以及显影装置连接，蚀刻装置的后段与清洗装置连接，显影装置的后段与蚀刻装置连接，清洗装置的后段与去膜装置连接、去膜装置后段与水洗装置连接，水洗装置的后段与烘干装置连接。通过使用本实用新型一种带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统，采用了如上的方案具有以下的效果：通过清洗装置与水洗装置有效的去除残留的化学溶液，同时利用罩体阻隔了设备生产时的废气，并且通过空气过滤器将废气过滤净化。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洗 烘干 装置 蚀刻 生产线 系统 | ||
【主权项】：
一种带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统，其特征在于，包括：印刷装置、曝光装置、显影装置、蚀刻装置、清洗装置，所述曝光装置分别与所述印刷装置以及显影装置连接，所述蚀刻装置的后段与所述清洗装置连接，所述显影装置的后段与所述蚀刻装置连接，所述清洗装置的后段与去膜装置连接、所述去膜装置后段与水洗装置连接，所述水洗装置的后段与烘干装置连接。
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