[实用新型]曝光装置有效
| 申请号： | 201320132821.1 | 申请日： | 2013-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN203117641U | 公开（公告）日： | 2013-08-07 |
| 发明（设计）人： | 汪栋;方群 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王莹 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及显示技术领域，具体涉及一种曝光装置。该曝光装置包括：提供平行曝光光线的光源模块，沿所述曝光光线传播方向依次设置的快门和掩膜板；所述快门与掩膜板之间设置有修正所述曝光光线传播方向保证其为平行光的光学修正机构。本实用新型所提供的曝光装置，通过在快门与掩膜板之间设置光学修正机构，利用光学修正机构修正曝光光线传播方向，保证其为平行光，从而使曝光光线通过掩膜板上的透光区域后，使掩膜板透光区域对应的基板上的光刻胶均能够得到充分、均匀的曝光，从而达到减小或者消除灰区的目的，使曝光后的基板上的光刻胶保留区域形成平整的表面，从而有利于后续的刻蚀工艺，提高了产品的良品率。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，包括：提供平行曝光光线的光源模块，沿所述曝光光线传播方向依次设置的快门和掩膜板；其特征在于，所述快门与掩膜板之间设置有修正所述曝光光线传播方向保证其为平行光的光学修正机构。
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