[实用新型]采用场发射阵列激发的平板紫外辐射光源的3D打印系统有效

专利信息
申请号: 201320138692.7 申请日: 2013-03-25
公开(公告)号: CN203282707U 公开(公告)日: 2013-11-13
发明(设计)人: 钟伟杰;赵健;夏忠平 申请(专利权)人: 上海显恒光电科技股份有限公司
主分类号: B29C67/00 分类号: B29C67/00;H01J63/06
代理公司: 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 代理人: 何新平
地址: 201210 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型涉及3D打印领域,采用场发射阵列激发的平板紫外辐射光源的3D打印系统包括一紫外固化光源、一打印平台,以及一打印执行机构,紫外固化光源采用场发射阵列激发的平板紫外辐射光源,场发射阵列激发的平板紫外辐射光源包括一阳极板,阳极板上设有一紫外荧光粉层;场发射阵列激发的平板紫外辐射光源还包括一场发射阴极阵列,场发射阴极阵列朝向阳极板。因场发射阵列激发的平板紫外辐射光源采用的是场发射阴极阵列,故光源整体呈板状,可以直接设在打印平台上,或者作为打印平台上的物料承接箱,而且板状光源射出的光更加均匀,更重要的是场发射阴极为阵列状,方便对局部进行光强调整,实现对局部的固化。
搜索关键词: 用场 发射 阵列 激发 平板 紫外 辐射 光源 打印 系统
【主权项】:
采用场发射阵列激发的平板紫外辐射光源的3D打印系统包括一紫外固化光源、一打印平台,以及一打印执行机构,其特征在于: 所述紫外固化光源采用场发射阵列激发的平板紫外辐射光源,所述场发射阵列激发的平板紫外辐射光源包括一阳极板,所述阳极板上设有一紫外荧光粉层; 所述场发射阵列激发的平板紫外辐射光源还包括一场发射阴极阵列,所述场发射阴极阵列朝向所述阳极板。
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