[实用新型]一种超导磁体装置及磁共振成像设备有效

专利信息
申请号: 201320145540.X 申请日: 2013-03-16
公开(公告)号: CN203118700U 公开(公告)日: 2013-08-07
发明(设计)人: 李玉花 申请(专利权)人: 李玉花
主分类号: H01F6/04 分类号: H01F6/04;G01R33/3815
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 25500*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 实用新型公开了一种超导磁体装置及包括该超导磁体装置的磁共振成像设备,结构中包括超导线圈和低温容器,低温容器内充有第一冷却剂,超导线圈设置在第一冷却剂内,在所述低温容器外侧设置有真空空腔,在真空空腔外侧设置有保温腔,保温腔内充有第二冷却剂;所述超导线圈采用高温超导铋系带材料制成,所述第一冷却剂的温度低于第二冷却剂的温度,第二冷却剂的温度低于所述超导线圈的临界温度。本实用新型能够解决现有技术的不足,通过使用高温超导铋系带材料制作超导线圈,并设置两层冷却剂进行保温,最大限度的保证了超导线圈处于临界温度以下,避免“失超”现象的发生。
搜索关键词: 一种 超导 磁体 装置 磁共振 成像 设备
【主权项】:
一种超导磁体装置及磁共振成像设备,结构中包括超导线圈(1)和低温容器(2),低温容器(2)内充有第一冷却剂(3),超导线圈(1)设置在第一冷却剂(3)内,其特征在于:在所述低温容器(2)外侧设置有真空空腔(4),在真空空腔(4)外侧设置有保温腔(5),保温腔(5)内充有第二冷却剂(6);所述超导线圈(1)采用高温超导铋系带材料制成,所述第一冷却剂(3)的温度低于第二冷却剂(6)的温度,第二冷却剂(6)的温度低于所述超导线圈(1)的临界温度。
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