[实用新型]集成整流器和半导体集成电路有效

专利信息
申请号: 201320156168.2 申请日: 2013-03-29
公开(公告)号: CN203232870U 公开(公告)日: 2013-10-09
发明(设计)人: 李照华;王乐康;胡乔;林道明;赵春波;陈绪坤 申请(专利权)人: 深圳市明微电子股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L27/04;H05B33/08
代理公司: 深圳中一专利商标事务所 44237 代理人: 张全文
地址: 518000 广东省深圳市南山区高新*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型适用于半导体技术领域,提供了一种配设于具有P型衬底的半导体集成电路中的集成整流器,该集成整流器结构为:设置一P型衬底,并在所述P型衬底上形成两个第一P+区;在所述P型衬底上扩散形成两个相离的N阱,并在所述两个N阱上各自形成第一N+区;在所述两个N阱中各自扩散形成P阱,并在两个所述P阱上各自形成至少一个第二P+区;在所述两个P阱中各自注入形成一个N型掺杂区,并在所述两个N型掺杂区上各自形成第二N+区,使得应用在内部集成了原本为分立元件的集成整流器的半导体集成电路,可简化外围电路的布局,减小PCB的体积,降低生产成本。
搜索关键词: 集成 整流器 半导体 集成电路
【主权项】:
一种集成整流器,配设于具有P型衬底的半导体集成电路中,其特征在于,所述集成整流器包括: 两个第一P+区,配设于所述P型衬底; 两个相离的配设于所述P型衬底的N阱,所述两个N阱各自配设有第一N+区; 两个各自配设于所述两个N阱的P阱,所述两个P阱各自配设有至少一个第二P+区; 两个各自配设于所述两个P阱的N型掺杂区,所述两个N型掺杂区各自配设有第二N+区。
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