[实用新型]离子束发生腔室及离子注入机有效
| 申请号： | 201320188406.8 | 申请日： | 2013-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN203218218U | 公开（公告）日： | 2013-09-25 |
| 发明（设计）人： | 单易飞;邬璐磊 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种离子束发生腔室及离子注入机，所述离子注入机包括离子束发生腔室，所述离子束发生腔室包括一离子束发生腔室。所述离子束发生腔室，包括腔室底板、腔室侧板和腔室顶板，所述腔室底板、腔室侧板和腔室顶板围成所述腔室，所述离子束发生腔室还包括若干收集槽，所述若干收集槽设置于所述腔室侧板的内壁。通过在腔室侧板增设收集槽，收集槽可以将薄膜脱落物收集到其中，从而防止薄膜脱落物污染晶圆，进而提高产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 离子束 发生 离子 注入 | ||
【主权项】：
一种离子束发生腔室，包括腔室底板、腔室侧板和腔室顶板，所述腔室底板、腔室侧板和腔室顶板围成所述腔室，其特征在于，还包括若干收集槽，所述若干收集槽设置于所述腔室侧板的内壁。
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