[实用新型]曝光机有效
| 申请号： | 201320209239.0 | 申请日： | 2013-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN203217248U | 公开（公告）日： | 2013-09-25 |
| 发明（设计）人： | 余学权;徐先华;张力舟;刘志;贾富强;胡青松;刘甲甲 | 申请（专利权）人： | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B7/185 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王莹 |
| 地址： | 230011 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种曝光机，所述曝光机包括光源装置、支架和设置在支架上的反射镜，在所述支架与所述反射镜之间设置有至少一个调节机构，调节机构可向前推或向后拉反射镜的局部结构，以调节反射镜相应部分的曲率。本实用新型的曝光机不仅可以实现涂盖层曝光误差的高精度化控制，而且适用于需要多次曝光且误差方向不一致的面板的情况，其操作方便，自动化程度高，且具有较高的调节精度。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 | ||
【主权项】：
一种曝光机，包括光源装置、支架和设置在支架上的反射镜，其特征在于，在所述支架与所述反射镜之间设置有至少一个调节机构，调节机构可向前推或向后拉反射镜的局部结构，以调节反射镜相应部分的曲率。
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