[实用新型]一种用于MALDI源的激光引入和样品成像的装置有效
| 申请号： | 201320217672.9 | 申请日： | 2013-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN203300593U | 公开（公告）日： | 2013-11-20 |
| 发明（设计）人： | 张学记;马庆伟;陈莲莲 | 申请（专利权）人： | 马庆伟 |
| 主分类号： | H01J49/04 | 分类号： | H01J49/04;H01J49/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100085 北京市海淀区西*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种用于基质辅助激光解吸电离源的激光引入和样品成像的装置，该装置包括激光引入装置和样品成像装置。所述的激光引入装置将激光引向样品区域从而电离样品，样品成像装置实现电离室内样品区域的可见。本实用新型的装置采用激光、照明、成像三条独立的光路设计。独特的光纤传导激光，简化光学系统，便于基质辅助激光解吸电离源的外形设计。本实用新型适合应用于MALDI-TOF质谱仪做离子源。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 maldi 激光 引入 样品 成像 装置 | ||
【主权项】：
一种用于MALDI源的激光引入和样品成像的装置，该装置包括激光引入装置和样品成像装置，其特征在于激光器(1)的输出端设置有渐变的光学衰减器(2)，衰减后的激光通过光纤(3)传导，在光纤(3)输出端设置有激光扩束器(4)，激光扩束器(4)端设置有光学调节架(5)，输出的激光经反射镜(6)以与样品板(8)所在平面成45度角的方向进入电离室(11)，在电离室(11)内设置有聚焦透镜(7)，使激光经过此透镜以一定的光斑到达样品区域。
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