[实用新型]等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统有效
申请号: | 201320250400.9 | 申请日: | 2013-05-10 |
公开(公告)号: | CN203284462U | 公开(公告)日: | 2013-11-13 |
发明(设计)人: | 杨普磊;祖章旭;赵成林 | 申请(专利权)人: | 河北金宏阳太阳能科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/513 |
代理公司: | 石家庄国为知识产权事务所 13120 | 代理人: | 夏素霞 |
地址: | 054100 *** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统,涉及化学气相沉积镀膜技术领域。本实用新型包括一排支管道,所述支管道的一端均和进气管道的一侧连通,所述进气管道和总管道连通,支管道的上方设有一排出气孔,所述进气管道的另一侧还设有一排支管道,以上构成一组进气装置。本实用新型结构简单、送气均匀,能大大提高镀膜厚度的均一性,提高产品质量和生产率,降低成本,提高产品的合格率,便于批量生产。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 化学 沉积 镀膜 设备 送气 系统 | ||
【主权项】:
一种等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统,包括一排支管道(4),所述支管道(4)的一端均和进气管道(3)的一侧连通,所述进气管道(3)和总管道(1)连通,支管道(4)的上方设有一排出气孔(5),其特征在于:所述进气管道(3)的另一侧还设有一排支管道(4),以上构成一组进气装置。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的