[实用新型]等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统有效

专利信息
申请号: 201320250400.9 申请日: 2013-05-10
公开(公告)号: CN203284462U 公开(公告)日: 2013-11-13
发明(设计)人: 杨普磊;祖章旭;赵成林 申请(专利权)人: 河北金宏阳太阳能科技股份有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/513
代理公司: 石家庄国为知识产权事务所 13120 代理人: 夏素霞
地址: 054100 *** 国省代码: 河北;13
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摘要: 实用新型公开了一种等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统,涉及化学气相沉积镀膜技术领域。本实用新型包括一排支管道,所述支管道的一端均和进气管道的一侧连通,所述进气管道和总管道连通,支管道的上方设有一排出气孔,所述进气管道的另一侧还设有一排支管道,以上构成一组进气装置。本实用新型结构简单、送气均匀,能大大提高镀膜厚度的均一性,提高产品质量和生产率,降低成本,提高产品的合格率,便于批量生产。
搜索关键词: 等离子体 化学 沉积 镀膜 设备 送气 系统
【主权项】:
一种等离子体化学气相沉积镀膜设备送气系统,包括一排支管道(4),所述支管道(4)的一端均和进气管道(3)的一侧连通,所述进气管道(3)和总管道(1)连通,支管道(4)的上方设有一排出气孔(5),其特征在于:所述进气管道(3)的另一侧还设有一排支管道(4),以上构成一组进气装置。
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