[实用新型]一种提高磁控溅射脉冲电源输出脉冲频率的装置有效

专利信息
申请号: 201320306840.1 申请日: 2013-05-30
公开(公告)号: CN203326917U 公开(公告)日: 2013-12-04
发明(设计)人: 孙强;孙天乐;陈桂涛;黄西平 申请(专利权)人: 西安理工大学
主分类号: H02M9/02 分类号: H02M9/02
代理公司: 西安弘理专利事务所 61214 代理人: 李娜
地址: 710048*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 实用新型公开了一种提高磁控溅射脉冲电源输出脉冲频率的装置,包括依次连接的直流电流源模块、高频脉冲发生模块及磁控溅射装置,直流电流源模块、高频脉冲发生模块还分别与控制模块连接。本实用新型提高磁控溅射脉冲电源输出脉冲频率的装置,利用FPGA芯片的灵活性,产生脉冲发生单元所需的多路驱动信号,脉冲发生单元利用8只开关管交替导通和关断,实现不提高开关管开关频率的条件下,输出频率加倍,等效提高了电源最大输出频率,扩展了电源对工艺的适用范围。
搜索关键词: 一种 提高 磁控溅射 脉冲 电源 输出 频率 装置
【主权项】:
一种提高磁控溅射脉冲电源输出脉冲频率的装置,其特征在于,包括依次连接的直流电流源模块(1)、高频脉冲发生模块(2)及磁控溅射装置(3),直流电流源模块(1)、高频脉冲发生模块(2)还分别与控制模块(4)连接。
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