[实用新型]等离子体气相沉积装置用背板及等离子体气相沉积装置

摘要

本实用新型公开了一种等离子体气相沉积装置用背板及等离子体气相沉积装置，涉及化学气相沉积领域，以解决现有技术中等离子体气相沉积装置背板造成的气体扩散均匀性无法得到保证，从而影响成膜均匀性的问题。为了克服上述问题，本实用新型的实施例采用如下技术方案：一种等离子体气相沉积装置用背板，所述背板的一个表面设有进气孔，所述背板的另一相对表面设有多个出气孔，所述背板内部设有空腔，所述进气孔和多个所述出气孔均与所述空腔连通。本实用新型用于进行等离子增强化学气相沉积操作。

主权项

一种等离子体气相沉积装置用背板，所述背板的一个表面设有进气孔，其特征在于：所述背板的另一相对表面设有多个出气孔，所述背板内部设有空腔，所述进气孔和多个所述出气孔均与所述空腔连通。