[实用新型]一种刻蚀传动台阶有效
申请号: | 201320370249.2 | 申请日: | 2013-06-25 |
公开(公告)号: | CN203367329U | 公开(公告)日: | 2013-12-25 |
发明(设计)人: | 崔景利 | 申请(专利权)人: | 苏州聚晶科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215137 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种刻蚀传动台阶,包括滚轮本体、刻蚀区间分隔台、支撑台,其特征在于滚轮本体上平均分布多个刻蚀区间分隔台,相邻两个刻蚀区间分隔台之间设置两个支撑台。支撑台上设置有细纹滚花。使用本实用新型的刻蚀过程,刻蚀区间分隔台将工作区间划分为多个刻蚀区间,硅片设置在支撑台上,由于支撑台上有细纹滚花,可以带动及搅动溶液,使硅片与支撑台接触部分反应均匀,而且采用这种传动方式,溶液浸没硅片边缘,不会产生过刻蚀。本实用新型结构简单,使用方便。 | ||
搜索关键词: | 一种 刻蚀 传动 台阶 | ||
【主权项】:
一种刻蚀传动台阶,包括滚轮本体、刻蚀区间分隔台、支撑台,其特征在于滚轮本体上平均分布多个刻蚀区间分隔台,相邻两个刻蚀区间分隔台之间设置两个支撑台。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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