[实用新型]一种与连续挤压机匹配的喷射沉积装置有效

专利信息
申请号: 201320400538.2 申请日: 2013-07-08
公开(公告)号: CN203346464U 公开(公告)日: 2013-12-18
发明(设计)人: 刘英莉;尹建成;郑大亮;王宇锋;汪创伟;钟毅 申请(专利权)人: 昆明理工大学
主分类号: C23C4/06 分类号: C23C4/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 650093 云*** 国省代码: 云南;53
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型涉及一种与连续挤压机匹配的喷射沉积装置,属于喷射沉积技术领域。包括熔炼系统和喷射系统,喷射系统由带有雾化器的导流管构成,导流管的与熔炼系统相连,还包括区域控制系统,区域控制系统由两个可自转的圆盘组成,两个圆盘盘面相对、呈“V”字型放置,且两个圆盘的“V”字型底端留出10~28mm的距离形成一个出口;导流管分布在两个圆盘的“V”字型的上方中线处,连续挤压机的挤压轮轮槽位于两个圆盘的“V”字型的下方中线处。该装置喷射的沉积坯的宽度可以有效控制在10~28mm范围,能够真正实现喷射沉积与连续挤压工艺的连续和一体化成型。
搜索关键词: 一种 连续 挤压 匹配 喷射 沉积 装置
【主权项】:
一种与连续挤压机匹配的喷射沉积装置,包括熔炼系统和喷射系统,喷射系统由带有雾化器(7)的导流管(6)构成,导流管(6)的与熔炼系统相连,其特征在于:还包括区域控制系统,区域控制系统由两个自转的圆盘(1)组成,两个圆盘(1)盘面相对、呈“V”字型放置,且两个圆盘(1)的“V”字型底端留出10~28mm的距离形成一个出口;导流管(6)分布在两个圆盘(1)的“V”字型的上方中线处,连续挤压机的挤压轮轮槽(9)位于两个圆盘(1)的“V”字型的下方中线处。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆明理工大学,未经昆明理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201320400538.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top