[实用新型]一种与连续挤压机匹配的喷射沉积装置有效
申请号: | 201320400538.2 | 申请日: | 2013-07-08 |
公开(公告)号: | CN203346464U | 公开(公告)日: | 2013-12-18 |
发明(设计)人: | 刘英莉;尹建成;郑大亮;王宇锋;汪创伟;钟毅 | 申请(专利权)人: | 昆明理工大学 |
主分类号: | C23C4/06 | 分类号: | C23C4/06 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 650093 云*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种与连续挤压机匹配的喷射沉积装置,属于喷射沉积技术领域。包括熔炼系统和喷射系统,喷射系统由带有雾化器的导流管构成,导流管的与熔炼系统相连,还包括区域控制系统,区域控制系统由两个可自转的圆盘组成,两个圆盘盘面相对、呈“V”字型放置,且两个圆盘的“V”字型底端留出10~28mm的距离形成一个出口;导流管分布在两个圆盘的“V”字型的上方中线处,连续挤压机的挤压轮轮槽位于两个圆盘的“V”字型的下方中线处。该装置喷射的沉积坯的宽度可以有效控制在10~28mm范围,能够真正实现喷射沉积与连续挤压工艺的连续和一体化成型。 | ||
搜索关键词: | 一种 连续 挤压 匹配 喷射 沉积 装置 | ||
【主权项】:
一种与连续挤压机匹配的喷射沉积装置,包括熔炼系统和喷射系统,喷射系统由带有雾化器(7)的导流管(6)构成,导流管(6)的与熔炼系统相连,其特征在于:还包括区域控制系统,区域控制系统由两个自转的圆盘(1)组成,两个圆盘(1)盘面相对、呈“V”字型放置,且两个圆盘(1)的“V”字型底端留出10~28mm的距离形成一个出口;导流管(6)分布在两个圆盘(1)的“V”字型的上方中线处,连续挤压机的挤压轮轮槽(9)位于两个圆盘(1)的“V”字型的下方中线处。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
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