[实用新型]可后续加工的含铜、银四层低辐射镀膜玻璃有效

专利信息
申请号: 201320413365.8 申请日: 2013-07-12
公开(公告)号: CN203651100U 公开(公告)日: 2014-06-18
发明(设计)人: 林嘉宏 申请(专利权)人: 台玻天津玻璃有限公司
主分类号: B32B15/04 分类号: B32B15/04;B32B9/04;B32B15/20;B32B33/00
代理公司: 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 代理人: 彭逊
地址: 301609 天津*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 实用新型公开了一种可后续加工的含铜、银四层低辐射镀膜玻璃,其特征在于,所述膜层自玻璃基片向外依次包括:基层电介质组合层、第一阻挡层、铜层、第二阻挡层、第一隔层电介质组合层、第一电介质平铺层、第一银层、第一电介质保护层、第二隔层电介质组合层、第二电介质平铺层、第二银层、第二电介质保护层、第三隔层电介质组合层、第三电介质平铺层、第三银层、第三阻挡层、顶层电介质组合层。本实用新型采用一层铜和三层银相结合的独特膜系结构,相对四银低辐射镀膜玻璃而言具有价格低廉、辐射低、可见光透过率高、外观不呈现干扰色、选择系数高、节能效果佳、极好的耐候性,可进行后续加工。
搜索关键词: 后续 加工 银四层低 辐射 镀膜 玻璃
【主权项】:
一种可后续加工的含铜、银四层低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基片和膜层,其特征在于,所述膜层自玻璃基片向外依次包括:基层电介质组合层、第一阻挡层、铜层、第二阻挡层、第一隔层电介质组合层、第一电介质平铺层、第一银层、第一电介质保护层、第二隔层电介质组合层、第二电介质平铺层、第二银层、第二电介质保护层、第三隔层电介质组合层、第三电介质平铺层、第三银层、第三阻挡层、顶层电介质组合层。 
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