[实用新型]单腔镀膜设备有效

专利信息
申请号: 201320414050.5 申请日: 2013-07-12
公开(公告)号: CN203346476U 公开(公告)日: 2013-12-18
发明(设计)人: 张吉智;吴凤丽;姜崴 申请(专利权)人: 沈阳拓荆科技有限公司
主分类号: C23C16/54 分类号: C23C16/54;C23C14/56
代理公司: 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 代理人: 甄玉荃
地址: 110179 辽宁省*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 单腔镀膜设备,主要解决现有产品结构复杂、生产成本高及调试不够灵活的问题。它包括框架结构,框架结构上安装反应腔部分、气箱、电控部分及触摸屏,所述电控部分安装于框架结构的下方,用于控制设备各项参数,提供电源。本实用新型简化了晶圆从前端模块经传片腔到反应腔的全自动传输过程,改为手动取放片,化自动为手动,为节约成本提供了空间。本实用新型用低廉的成本,高度集约化的体积,达到工业化的成膜质量,方便小型FAB厂小批量生产和科研单位的灵活调试。
搜索关键词: 镀膜 设备
【主权项】:
一种单腔镀膜设备,包括框架结构(4),其特征在于:框架结构(4)上安装反应腔部分(1)、气箱(6)、电控部分(7)及触摸屏(8),所述电控部分(7)安装于框架结构(4)的下方。
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