[实用新型]单腔镀膜设备有效
申请号: | 201320414050.5 | 申请日: | 2013-07-12 |
公开(公告)号: | CN203346476U | 公开(公告)日: | 2013-12-18 |
发明(设计)人: | 张吉智;吴凤丽;姜崴 | 申请(专利权)人: | 沈阳拓荆科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C14/56 |
代理公司: | 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 | 代理人: | 甄玉荃 |
地址: | 110179 辽宁省*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 单腔镀膜设备,主要解决现有产品结构复杂、生产成本高及调试不够灵活的问题。它包括框架结构,框架结构上安装反应腔部分、气箱、电控部分及触摸屏,所述电控部分安装于框架结构的下方,用于控制设备各项参数,提供电源。本实用新型简化了晶圆从前端模块经传片腔到反应腔的全自动传输过程,改为手动取放片,化自动为手动,为节约成本提供了空间。本实用新型用低廉的成本,高度集约化的体积,达到工业化的成膜质量,方便小型FAB厂小批量生产和科研单位的灵活调试。 | ||
搜索关键词: | 镀膜 设备 | ||
【主权项】:
一种单腔镀膜设备,包括框架结构(4),其特征在于:框架结构(4)上安装反应腔部分(1)、气箱(6)、电控部分(7)及触摸屏(8),所述电控部分(7)安装于框架结构(4)的下方。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的