[实用新型]局部蚀刻装置有效
| 申请号： | 201320416395.4 | 申请日： | 2013-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN203482505U | 公开（公告）日： | 2014-03-12 |
| 发明（设计）人： | 曾子章;刘文芳;张启民 | 申请（专利权）人： | 欣兴电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H05K3/06 | 分类号： | H05K3/06 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 实用新型公开一种局部蚀刻装置，其适于对物体进行局部蚀刻。局部蚀刻装置包括局部蚀刻槽以及喷洒单元。局部蚀刻槽适于容置物体，并具有蚀刻有效区。喷洒单元可移动地设置于蚀刻有效区，并位于物体的上方。喷洒单元包括多个喷嘴，以对物体喷洒蚀刻液。各喷嘴具有控制阀，各控制阀独立控制对应的喷嘴，且各该喷嘴沿倾斜方向设置并与垂直方向夹有锐角。 | ||
| 搜索关键词： | 局部 蚀刻 装置 | ||
【主权项】：
一种局部蚀刻装置，适于对物体进行局部蚀刻，其特征在于，该局部蚀刻装置包括：局部蚀刻槽，用于容置该物体，并具有蚀刻有效区；以及喷洒单元，可移动地设置于该蚀刻有效区，并位于该物体的上方，该喷洒单元包括多个喷嘴，以对该物体喷洒蚀刻液，各该喷嘴具有控制阀，各该控制阀独立控制对应的喷嘴，且各该喷嘴沿倾斜方向设置并与垂直方向夹有第一锐角。
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