[实用新型]焦面调整装置有效
| 申请号： | 201320417821.6 | 申请日： | 2013-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN203444239U | 公开（公告）日： | 2014-02-19 |
| 发明（设计）人： | 周静怡;马明英 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/207 | 分类号： | G03F7/207;G02F1/29 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提出一种焦面调整装置，包括工件台以及成像装置；成像装置设置在工件台上方；成像装置包括投影物镜、可控光学器件以及电控单元；可控光学器件设置在投影物镜内；可控光学器件与电控单元连接；添加可控光学器件在投影物镜与工件台之间，通过电控单元调整可控光学器件的光学特性改变投影物镜焦面的高阶形貌，使得投影物镜焦面产生特定的形貌起伏，并使焦面与硅片表面的高阶起伏重合，从而提高了光刻机的总体调焦精度，进而提高光刻工艺的成品率。 | ||
| 搜索关键词： | 调整 装置 | ||
【主权项】：
一种焦面调整装置，其特征在于，包括：工件台以及成像装置；所述成像装置设置在所述工件台上方；所述成像装置包括投影物镜、可控光学器件以及电控单元；所述可控光学器件设置在所述投影物镜内；所述可控光学器件与所述电控单元连接。
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