[实用新型]一种用于真空靶材喷涂的真空喷涂罐结构有效
| 申请号： | 201320418469.8 | 申请日： | 2013-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN203373415U | 公开（公告）日： | 2014-01-01 |
| 发明（设计）人： | 罗永春 | 申请（专利权）人： | 厦门映日新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C4/12 | 分类号： | C23C4/12 |
| 代理公司： | 厦门市诚得知识产权代理事务所(普通合伙) 35209 | 代理人： | 李伊飏 |
| 地址： | 361000 福建省厦*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种用于真空靶材喷涂的真空喷涂罐结构，该真空喷涂罐为内部呈真空状态的双层式罐体及罐体两端的密封端盖，该双层式罐体包括内层罐体及外层罐体，所述外层罐体包裹与内层罐体外侧，并在内层罐体及外层罐体之间形成水冷空腔，所述水冷空腔内部设置有罐体水冷结构。本实用新型采用双层结构罐体，且双层中增加水冷效果，实现在保持真空状态下还同时实现快速降温冷却的目的，从而提高生产效率，降低成本；而在真空状态下生产的靶材，具有高致密度、高纯度、低氧、氮含量、高结合强度等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 真空 喷涂 结构 | ||
【主权项】：
一种用于真空靶材喷涂的真空喷涂罐结构，其特征在于：该真空喷涂罐为内部呈真空状态的双层式罐体及罐体两端的密封端盖，该双层式罐体包括内层罐体及外层罐体，所述外层罐体包裹与内层罐体外侧，并在内层罐体及外层罐体之间形成水冷空腔，所述水冷空腔内部设置有罐体水冷结构。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理，例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
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