[实用新型]一种多晶硅锭铸造用坩埚有效
申请号: | 201320420171.0 | 申请日: | 2013-07-16 |
公开(公告)号: | CN203403171U | 公开(公告)日: | 2014-01-22 |
发明(设计)人: | 宋丽平;张泽兴;吴彬辉;杨帅国;傅亮 | 申请(专利权)人: | 江西旭阳雷迪高科技股份有限公司 |
主分类号: | C30B28/06 | 分类号: | C30B28/06;C30B29/06 |
代理公司: | 南昌新天下专利商标代理有限公司 36115 | 代理人: | 施秀瑾 |
地址: | 332000 江西省九江*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 一种多晶硅锭铸造用坩埚,包括埚体、埚底,所述坩埚内表面喷涂氮化硅涂层,所述坩埚埚底内表面氮化硅涂层上喷涂氮化硅粉与硅粉涂层。改变晶体生长初期底部成核时的粗糙度,以求生长出高效多晶,具有成品收益高、单片硅片成本低的特点。 | ||
搜索关键词: | 一种 多晶 铸造 坩埚 | ||
【主权项】:
一种多晶硅锭铸造用坩埚,包括埚体(1)、埚底(2),其特征在于,所述坩埚内表面喷涂氮化硅涂层,所述坩埚埚底(2)内表面氮化硅涂层上喷涂氮化硅粉与硅粉涂层(3)。
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