[实用新型]用于半导体元件及其生产设备的清洁机具有效
| 申请号： | 201320421268.3 | 申请日： | 2013-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN203426101U | 公开（公告）日： | 2014-02-12 |
| 发明（设计）人： | 刘文隆 | 申请（专利权）人： | 菘镱科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B5/02 | 分类号： | B08B5/02 |
| 代理公司： | 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 | 代理人： | 张瑾 |
| 地址： | 中国台湾高雄*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于半导体元件及其生产设备的清洁机具，包含：操作平台，其设置于邻近该半导体元件及其生产设备、制作用模具及治具的位置处；导料装置，其设置于该操作平台上；清洁装置，其设置于该操作平台上，且和该导料装置相邻设置。本实用新型所提供的清洁机具，其清洁装置所喷出的固态二氧化碳可进入残留物的细缝内，随着固态二氧化碳的升华，加大残留物的细缝，终至残留物和半导体元件、制作用模具或治具完全分离，且完全不会产生毁损半导体元件及其生产设备、制作用模具或治具本体表面的问题，达到半导体元件及其生产设备、制作用模具或治具的去污、保养的清洁效果。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 半导体 元件 及其 生产 设备 清洁 机具 | ||
【主权项】：
一种用于半导体元件及其生产设备的清洁机具，其特征在于，包含有：操作平台，其设置于邻近该半导体元件及其生产设备、制作用模具及治具的位置处；导料装置，其设置于该操作平台上，且于该操作平台上形成供该半导体元件及其生产设备进出的入口端及出口端；清洁装置，其设置于该操作平台上，且和该导料装置相邻设置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于菘镱科技有限公司，未经菘镱科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201320421268.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：治疗失眠的中药制剂及其制备方法
- 下一篇：一种用于治疗急性泪囊炎的中药
