[实用新型]一种化学气相沉积系统有效
申请号: | 201320436496.8 | 申请日: | 2013-07-22 |
公开(公告)号: | CN203360573U | 公开(公告)日: | 2013-12-25 |
发明(设计)人: | 戴煜;胡祥龙;胡高健 | 申请(专利权)人: | 湖南顶立科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/44 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王宝筠 |
地址: | 410118 湖南省长沙市长*** | 国省代码: | 湖南;43 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本申请公开了一种化学气相沉积系统,包括:结构为箱型并且对外密闭的沉积炉;多个设置在沉积炉上并与沉积炉相连通,用来向沉积炉内输送化学气体的喷嘴;与喷嘴相连通的化学气体分配装置;多个设置在沉积炉上并与沉积炉相连通,用来对沉积炉抽真空的抽真空口;与抽真空口相连通的抽真空装置;设置在沉积炉内壁上的多个加热装置。通过控制不同喷嘴和抽真空口的开关,改善沉积炉内化学气体浓度的均匀性;同时沉积炉内的多个加热装置,可以使炉内各个部位的温度基本一致。本申请提供的化学气相沉积系统的沉积炉内各个位置的化学气体浓度均匀性和温度均匀性较好,使沉积炉内各个位置沉积的速率能够保持一致,最终可以得到的密度均匀一致的产品。 | ||
搜索关键词: | 一种 化学 沉积 系统 | ||
【主权项】:
一种化学气相沉积系统,其特征在于,包括:结构为箱型并且对外密闭的沉积炉;多个设置在所述沉积炉上并与所述沉积炉相连通,用于向所述沉积炉内输送化学气体的喷嘴;与所述喷嘴相连通的化学气体分配装置;多个设置在所述沉积炉上并与所述沉积炉相连通,用于对所述沉积炉抽真空的抽真空口;与所述抽真空口相连通的抽真空装置;设置在所述沉积炉内壁上的多个加热装置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖南顶立科技有限公司,未经湖南顶立科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201320436496.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种低碳钢针阀体防渗碳保护套
- 下一篇:LED芯片ITO蒸镀机可视窗口
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的