[实用新型]一种MOCVD进料装置有效
申请号: | 201320489084.0 | 申请日: | 2013-08-12 |
公开(公告)号: | CN203411608U | 公开(公告)日: | 2014-01-29 |
发明(设计)人: | 李致文 | 申请(专利权)人: | 深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;B25J9/08;B25J9/16 |
代理公司: | 深圳市康弘知识产权代理有限公司 44247 | 代理人: | 胡朝阳;孙洁敏 |
地址: | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种MOCVD进料装置,包括:支座、与所述支座连接的左右运动单元和上下运动单元、与支座连接的机械手组件、以及运动控制装置,运动控制装置控制左右运动单元和上下运动单元的运动状态。本实用新型采用直线型的进料方式,通过左右运动单元和上下运动单元直线型传动,可以缩短机械悬臂的长度,有利于加强机械悬臂的刚性,减少机械手抓取负载时引起的机械悬臂变形,确保了机械手的运动精度,且构成零件简单,易于制造和装配,同时左右、上下运动单元通过运动控制装置控制,确保了机械手的运动精度。 | ||
搜索关键词: | 一种 mocvd 进料 装置 | ||
【主权项】:
一种MOCVD进料装置,其特征在于包括:支座、与所述支座连接的左右运动单元和上下运动单元、与支座连接的机械手组件、以及运动控制装置,其中, 所述的左右运动单元包括:固定在所述支座正面横向设置的两条左右导轨(2)、与所述左右导轨配合的滑块(3),该滑块与机械手组件固定连接,所述支座(1)上还设有带动滑块运动的横向同步带(4)和横向同步电机; 所述上下运动单元包括:纵向固定在所述支座后方的两个圆柱形上下导轨(5)、套于所述上下导轨上并与所述支座固定连接的四个限位块(6)、纵向固定设置在支座后方的两个丝杆(7)、套于所述丝杆上并与所述支座固定连接的方形螺母,所述丝杆与纵向步进电机连接; 运动控制装置包括:控制所述横向步进电机和所述纵向步进电机开停的控制模块。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的