[实用新型]一种电解镍或电解钴的装置有效

专利信息
申请号: 201320491473.7 申请日: 2013-08-13
公开(公告)号: CN203440459U 公开(公告)日: 2014-02-19
发明(设计)人: 邓智林;赵泽平;杨思增;干勇 申请(专利权)人: 四川省尼科国润新材料有限公司
主分类号: C25C1/08 分类号: C25C1/08;C25C7/02;C25C7/04
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 代理人: 吴彦峰
地址: 620866 四川*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型涉及化工技术领域中的电解沉积设备,具体为一种电积镍或电积钴的装置。该装置中的电积槽内设置有阴极框和阳极框,在阴极框和阳极框之间设置渗透膜,电积槽的一端设置有高位槽,高位槽内通过管道与电积槽连接,阴极框上设置电解液入口,在电积槽的另外一端设置低位槽,阳极框的下端设置阳极液出口,阳极液出口与支管连接,支管与总管连接后再与阳极液溢流口连接。本实用新型可使电积槽内的极间距保持在较小的范围内,有效提高槽利用率。采用压紧螺杆将所有的阴极框和阳极框固定连接在一起,搬运方便,操作安全。阳极框采用密闭结构,使框内产生的酸雾通过酸雾排出口统一排出处理,保证了工人的健康。
搜索关键词: 一种 电解 装置
【主权项】:
一种电积镍或电积钴的装置,包括带有阴极框和阳极框的电积槽,其特征在于:该电积槽内设置有阴极框和阳极框,在阴极框和阳极框之间设置渗透膜,电积槽的一端设置有高位槽,高位槽内通过管道与电积槽连接,阴极框上设置电解液入口,在电积槽的另外一端设置低位槽,阳极框的下端设置阳极液出口,阳极液出口与支管连接,支管与总管连接后再与阳极液溢流口连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于四川省尼科国润新材料有限公司,未经四川省尼科国润新材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201320491473.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top