[实用新型]一种发光二极管外延片接触层有效
申请号: | 201320492901.8 | 申请日: | 2013-08-14 |
公开(公告)号: | CN203367348U | 公开(公告)日: | 2013-12-25 |
发明(设计)人: | 芦玲;张向飞;钱仁海;刘坚 | 申请(专利权)人: | 淮安澳洋顺昌光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L33/40 | 分类号: | H01L33/40 |
代理公司: | 淮安市科文知识产权事务所 32223 | 代理人: | 谢观素 |
地址: | 223001 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种发光二极管外延片接触层,包括蓝宝石衬底层(1)、Buffer—缓冲层(2)、N型GaN层(3)、N—SLS层(4)、MQW发光层(5)以及P型GaN层(6),其特征在于:所述P型GaN层(6)上方设置有掺硅InGaN层(7)构成的接触层,本实用新型有效解决传统外延片的接触层为掺镁的InGaN层构成,从而发光二极管的Vf电压上升,从而降低发光二极管的光效。 | ||
搜索关键词: | 一种 发光二极管 外延 接触 | ||
【主权项】:
一种发光二极管外延片接触层,包括蓝宝石衬底层(1)、Buffer—缓冲层(2)、N型GaN层(3)、N—SLS层(4)、MQW发光层(5)以及P型GaN层(6),其特征在于:所述P型GaN层(6)上方设置有掺硅InGaN层(7)构成的接触层。
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