[实用新型]一种耐冲击的半导体封装结构有效
申请号: | 201320512977.2 | 申请日: | 2013-08-22 |
公开(公告)号: | CN203456433U | 公开(公告)日: | 2014-02-26 |
发明(设计)人: | 苏攀;游平 | 申请(专利权)人: | 江西创成半导体有限公司 |
主分类号: | H01L23/29 | 分类号: | H01L23/29;H01L23/31 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 343000 江西省*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 本实用新型涉及的一种耐冲击的半导体封装结构,包括被封装半导体器件、氟硅橡胶层和环氧树脂层,氟硅橡胶层覆盖被封装半导体器件,环氧树脂层覆盖氟硅橡胶层,氟硅橡胶层的厚度范围为0.5毫米到2毫米。本实用新型产生的有益效果是:采用氟硅橡胶层位于被封装半导体器件和环氧树脂层之间,可以起到耐冲击的作用。 | ||
搜索关键词: | 一种 冲击 半导体 封装 结构 | ||
【主权项】:
一种耐冲击的半导体封装结构,其特征在于:所述耐冲击的半导体封装结构包括被封装半导体器件、氟硅橡胶层和环氧树脂层,所述氟硅橡胶层覆盖被封装半导体器件,所述环氧树脂层覆盖氟硅橡胶层,所述氟硅橡胶层的厚度范围为0.5毫米到2毫米。
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