[实用新型]阵列基板及3D显示装置有效
| 申请号： | 201320541851.8 | 申请日： | 2013-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN203433236U | 公开（公告）日： | 2014-02-12 |
| 发明（设计）人： | 魏伟;武延兵 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02B27/22 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王莹 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及显示技术领域，公开了一种阵列基板及3D显示装置。所述阵列基板，包括：衬底基板及位于衬底基板上的像素阵列层，还包括：由若干间隔有预定距离的挡光条形成的用于3D显示的光栅层，光栅层位于像素阵列层背离衬底基板一侧，或位于衬底基板面向像素阵列一侧，或位于衬底基板背离像素阵列一侧，挡光条用于将通过衬底基板射向像素阵列层的光线反射。即在显示时，背光源发出的且未透过的光栅层的光被反射回背光源，由于背光源通常具有使光漫反射的导光板，导光板将反射回背光源的光再次反射使光透过光栅层，从而提高显示亮度。所述3D显示装置，包括所述的阵列基板。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 显示装置 | ||
【主权项】：
一种阵列基板，包括：衬底基板及位于所述衬底基板上的像素阵列层，其特征在于，还包括：由若干间隔有预定距离的挡光条形成的用于3D显示的光栅层，所述光栅层位于所述像素阵列层背离所述衬底基板一侧，或所述光栅层位于所述衬底基板面向所述像素阵列一侧，或所述光栅层位于所述衬底基板背离所述像素阵列一侧，所述挡光条用于将通过所述衬底基板射向所述像素阵列层的光线反射。
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