[实用新型]外延片基盘有效
申请号: | 201320559607.4 | 申请日: | 2013-09-10 |
公开(公告)号: | CN203474959U | 公开(公告)日: | 2014-03-12 |
发明(设计)人: | 邓顺达;林溪汉;陈浩中 | 申请(专利权)人: | 冠铨(山东)光电科技有限公司 |
主分类号: | C30B23/02 | 分类号: | C30B23/02;C30B25/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 272000 山东省济宁市*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 延片基盘,由盘体、中心容槽、容槽组成,其特征是中心容槽设置在盘体的中心位置上,容槽均匀设置在中心容槽的四周,中心容槽、容槽内设置外延片,中心容槽、容槽设置为直径相等的圆形,本实用新型的有益效果是外延片基盘一次能生长37片,生产效率高,生产成本低,外延片的均匀性较好,外延片的质量稳定。 | ||
搜索关键词: | 外延 片基盘 | ||
【主权项】:
外延片基盘,由盘体(1)、中心容槽(2)、容槽(3)组成,其特征是中心容槽(2)设置在盘体(1)的中心位置上,容槽(3)均匀设置在中心容槽(2)的四周,中心容槽(2)、容槽(3)内设置外延片,中心容槽(2)、容槽(3)设置为直径相等的圆形;所述的中心容槽(2)、容槽(3)的深度设置为0~650um;所述的中心容槽(2)、容槽(3)的底部形式设置为平底型、斜底型、凹型、凸型、阶梯型中的一种,其底部高度差设置为0.001~0.5um;所述的容槽(3)的布置形式为:盘体的中心位置上设置一个中心容槽(2),中心容槽(2)的四周均匀设置3周容槽(3),每周容槽(3)设置个数从内向外依次分别为:6、12、18。
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