[实用新型]曝气充分的曝气头有效

专利信息
申请号: 201320578553.6 申请日: 2013-09-17
公开(公告)号: CN203486959U 公开(公告)日: 2014-03-19
发明(设计)人: 谢弗伊 申请(专利权)人: 成都天宇创新科技有限公司
主分类号: C02F3/02 分类号: C02F3/02;C02F7/00;B05B1/14;B05B1/34
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610000 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型公开了一种曝气充分的曝气头,包括托盘,以所述托盘的进气端为下端,所述托盘的上端设有支撑盘,所述支撑盘上均匀设有多个上、下相通的气孔,所述支撑盘的上面安装有具有微孔的膜片,所述膜片的微孔分别由内而外呈环状分布形成多个微孔环;所述支撑盘的上表面设有由内而外的凹环,每一个所述凹环均位于相邻两个所述微孔环之间的下方,所述支撑盘位于所述凹环的位置以及相邻两个所述凹环之间的位置均设有所述气孔。本实用新型通过在支撑盘上设置凹环后,曝气头在曝气过程中,膜片上的微孔会同时受到来自微孔下方以及内、外侧方向的气流冲击,其冲击力量更大,所以通过微孔进入污水中的空气量更大,曝气更充分。
搜索关键词: 充分 曝气头
【主权项】:
一种曝气充分的曝气头,包括托盘,以所述托盘的进气端为下端,所述托盘的上端设有支撑盘,所述支撑盘上均匀设有多个上、下相通的气孔,所述支撑盘的上面安装有具有微孔的膜片,所述膜片的微孔分别由内而外呈环状分布形成多个微孔环;其特征在于:所述支撑盘的上表面设有由内而外的凹环,每一个所述凹环均位于相邻两个所述微孔环之间的下方,所述支撑盘位于所述凹环的位置以及相邻两个所述凹环之间的位置均设有所述气孔。
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