[实用新型]高分子彩釉瓦有效

专利信息
申请号: 201320579119.X 申请日: 2013-09-18
公开(公告)号: CN203514649U 公开(公告)日: 2014-04-02
发明(设计)人: 王进林 申请(专利权)人: 王进林
主分类号: E04D1/10 分类号: E04D1/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 637700 四川省南充*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型涉及建筑材料领域,尤其是一种高分子彩釉瓦。分为主瓦和檐瓦,包括下齿接头、上齿接头、沟瓦、阳瓦、固定孔,其特征在于:沟瓦为下凹形状,阳瓦为上凸形状,所述的固定孔设置在彩釉瓦的外缘上,该外缘还设置有防止雨水通过固定孔回流的凸肋,所述的下齿接头与沟瓦连接,所述的上齿接头与阳瓦连接。本实用新型的积极效果为:生产成本低;重量轻,强度高,抗冲击,不变形。相同面积的重量仅为水泥瓦的三分之一,降低了建筑物重量,减少了基础的承载力,搭接方便,外形美观。
搜索关键词: 高分子 彩釉
【主权项】:
一种高分子彩釉瓦,分为主瓦和檐瓦,包括下齿接头、上齿接头、沟瓦、阳瓦、固定孔,其特征在于:沟瓦为下凹形状,阳瓦为上凸形状,所述的固定孔设置在彩釉瓦的外缘上,该外缘还设置有防止雨水通过固定孔回流的凸肋,所述的下齿接头与沟瓦连接,所述的上齿接头与阳瓦连接。
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