[实用新型]高分子彩釉瓦有效
申请号: | 201320579119.X | 申请日: | 2013-09-18 |
公开(公告)号: | CN203514649U | 公开(公告)日: | 2014-04-02 |
发明(设计)人: | 王进林 | 申请(专利权)人: | 王进林 |
主分类号: | E04D1/10 | 分类号: | E04D1/10 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 637700 四川省南充*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本实用新型涉及建筑材料领域,尤其是一种高分子彩釉瓦。分为主瓦和檐瓦,包括下齿接头、上齿接头、沟瓦、阳瓦、固定孔,其特征在于:沟瓦为下凹形状,阳瓦为上凸形状,所述的固定孔设置在彩釉瓦的外缘上,该外缘还设置有防止雨水通过固定孔回流的凸肋,所述的下齿接头与沟瓦连接,所述的上齿接头与阳瓦连接。本实用新型的积极效果为:生产成本低;重量轻,强度高,抗冲击,不变形。相同面积的重量仅为水泥瓦的三分之一,降低了建筑物重量,减少了基础的承载力,搭接方便,外形美观。 | ||
搜索关键词: | 高分子 彩釉 | ||
【主权项】:
一种高分子彩釉瓦,分为主瓦和檐瓦,包括下齿接头、上齿接头、沟瓦、阳瓦、固定孔,其特征在于:沟瓦为下凹形状,阳瓦为上凸形状,所述的固定孔设置在彩釉瓦的外缘上,该外缘还设置有防止雨水通过固定孔回流的凸肋,所述的下齿接头与沟瓦连接,所述的上齿接头与阳瓦连接。
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