[实用新型]单晶硅片清洗装置有效
| 申请号： | 201320588616.6 | 申请日： | 2013-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN203508507U | 公开（公告）日： | 2014-04-02 |
| 发明（设计）人： | 牛龙;王文;童林剑;张斌;胡亚东;董典谟;樊帅 | 申请（专利权）人： | 陕西天宏硅材料有限责任公司 |
| 主分类号： | B08B7/04 | 分类号： | B08B7/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 712038 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了单晶硅片清洗装置，包括：一进料槽，一与进料槽顺次连接的第一药槽和第二药槽，以及一与第二药槽连接的自来水溢流槽，还包括一纯水供水系统，所述纯水供水系统包括一第一纯水槽，一第二纯水槽以及一第三纯水槽，所述第一纯水槽，第二纯水槽以及第三纯水槽相互连通，将通过第三纯水槽、第二纯水槽至第一纯水槽的纯水通过一溢流管通入纯水溢流槽，所述进料槽和自来水溢流槽均连接一自来水供水管。将硅片清洗工艺的改进优化与设备改造相结合，使我们现有的槽体较少，可以清洗（要求高，槽体多）单晶硅片，达到硅片表面质量干净，纯水消耗降低，生产成本降低，而最终实现生产效益提高的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 单晶硅 清洗 装置 | ||
【主权项】：
单晶硅片清洗装置，其特征在于，包括：一进料槽，一与进料槽顺次连接的第一药槽和第二药槽，以及一与第二药槽连接的自来水溢流槽，还包括一纯水供水系统，所述纯水供水系统包括一第一纯水槽，一第二纯水槽以及一第三纯水槽，所述第一纯水槽，第二纯水槽以及第三纯水槽相互连通，将通过第三纯水槽、第二纯水槽至第一纯水槽的纯水通过一溢流管通入纯水溢流槽，所述进料槽和自来水溢流槽均连接一自来水供水管，所述第一药槽，第二药槽，纯水溢流槽，第二纯水槽以及第三纯水槽均连接一纯水管。
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