[实用新型]GaN基LED外延片有效

专利信息
申请号: 201320598427.7 申请日: 2013-09-27
公开(公告)号: CN203491288U 公开(公告)日: 2014-03-19
发明(设计)人: 肖怀曙;谢春林 申请(专利权)人: 惠州比亚迪实业有限公司
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/32
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 516083*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型提供一种GaN基LED外延片,包括:衬底和外延层,所述外延层位于所述衬底之上,包括依次堆叠的以下结构层:N型GaN层;位于所述N型GaN层一侧的第一InGaN/GaN多量子阱层;位于所述第一InGaN/GaN多量子阱层一侧的第二InGaN/GaN多量子阱层;位于所述第二InGaN/GaN多量子阱层一侧的P型GaN层,其中,所述第一InGaN/GaN多量子阱层中的阱层厚度为D1,第二InGaN/GaN多量子阱层中的阱层厚度为D2,D1
搜索关键词: gan led 外延
【主权项】:
一种GaN基LED外延片,其特征在于,包括:衬底;和外延层,所述外延层位于所述衬底之上,包括依次堆叠的以下结构层:N型GaN层;位于所述N型GaN层一侧的第一InGaN/GaN多量子阱层;位于所述第一InGaN/GaN多量子阱层一侧的第二InGaN/GaN多量子阱层;位于所述第二InGaN/GaN多量子阱层一侧的P型GaN层,其中,所述第一InGaN/GaN多量子阱层中的阱层厚度为D1,第二InGaN/GaN多量子阱层中的阱层厚度为D2,D1
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于惠州比亚迪实业有限公司,未经惠州比亚迪实业有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201320598427.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

tel code back_top