[实用新型]一种表面等离激元成像光刻结构有效
| 申请号： | 201320645119.5 | 申请日： | 2013-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN203490456U | 公开（公告）日： | 2014-03-19 |
| 发明（设计）人： | 石建平;米佳佳;张青;张颖;姚敏 | 申请（专利权）人： | 安徽师范大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 24100*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 一种表面等离激元成像光刻结构，其特征在于：由超透镜结构（1）、第一光栅（2）、抗蚀剂层（5）、基底（6）和第二光栅（7）组成。第一光栅（2）和第二光栅（7）位于超透镜结构（1）的上方，抗蚀剂层（5）位于超透镜结构（1）的下方。本实用新型利用光栅从两端激发SPP，二者发生干涉，形成干涉条纹，然后利用超透镜结构放大消逝波，在抗蚀剂上形成超分辨的像，进而完成曝光，既充分利用了SPP的短波长特性，又利用了超透镜的超分辨能力，从而实现超高的光刻分辨率。同时还能实现远场成像光刻，有助于改善焦深。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 表面 离激元 成像 光刻 结构 | ||
【主权项】：
一种表面等离激元成像光刻结构，其特征在于：由超透镜结构（1）、第一光栅（2）、抗蚀剂层（5）、基底（6）和第二光栅（7）组成，第一光栅（2）和第二光栅（7）位于超透镜结构（1）的上方，抗蚀剂层（5）位于超透镜结构(1)的下方。
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