[实用新型]LPCVD自动补水系统

摘要

本实用新型公开了LPCVD自动补水系统，包括湿氧SIO2工艺炉管，所述湿氧SIO2工艺炉管上连接有补水系统；所述补水系统包括储水罐，该储水罐通过水蒸气输出管与湿氧SIO2工艺炉管相连接，在储水罐上端还设置有高纯氮气输入管，储水罐上还设置有进水口，在进水口上安装有补水装置，储水罐下方设置有加热器，加热器上还设置有重力控制装置，重力控制装置与补水装置相连接。本实用新型提供一种LPCVD自动补水系统，能够更好的控制补水的时间与补水量，避免发生补水不及时导致的SIO₂成膜速率降低以及物理性质变差，提高了SIO₂膜的生产效率与成品率，降低了生产成本，促进了企业的健康发展。

主权项

LPCVD自动补水系统，包括湿氧SIO₂工艺炉管，其特征在于，所述湿氧SIO₂工艺炉管上连接有补水系统；所述补水系统包括储水罐（8），该储水罐（8）通过水蒸气输出管（9）与湿氧SIO₂工艺炉管相连接，在储水罐（8）上端还设置有高纯氮气输入管（10），储水罐（8）上还设置有进水口（5），在进水口（5）上安装有补水装置，储水罐（8）下方设置有加热器（7），加热器（7）上还设置有重力控制装置，重力控制装置与补水装置相连接。