[实用新型]一种新型出光结构的GaN基发光二极管有效
申请号: | 201320659636.8 | 申请日: | 2013-10-25 |
公开(公告)号: | CN203607445U | 公开(公告)日: | 2014-05-21 |
发明(设计)人: | 郝锐;林振贤;林永祥;汪俊翰 | 申请(专利权)人: | 广东德力光电有限公司 |
主分类号: | H01L33/20 | 分类号: | H01L33/20;H01L33/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 529000 *** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种新型出光结构的GaN基发光二极管,包括在生长面设有多个凹形结构的衬底,衬底生长面依次生长有第一半导体载流子注入层、发光结构和第二半导体载流子注入层,同时还公开了该GaN基发光二极管的制作方法,先通过湿刻或干刻法在衬底生长面上形成有序分布的直径为5-10um凹形结构阵列,再采用MOCVD方法在衬底上依次生长第一半导体载流子注入层、多量子阱结构和第二半导体载流子注入层。本实用新型制作出的发光二极管,性能可靠,发光效率高,且能显著改善器件尤其是大功率输入时的散热效率,明显降低结温。 | ||
搜索关键词: | 一种 新型 结构 gan 发光二极管 | ||
【主权项】:
一种新型出光结构的GaN基发光二极管,其特征在于:包括在生长面设有多个凹形结构的衬底,衬底生长面依次生长有第一半导体载流子注入层、发光结构和第二半导体载流子注入层。
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