[实用新型]制药片剂抛光系统有效

专利信息
申请号: 201320661053.9 申请日: 2013-10-18
公开(公告)号: CN203622158U 公开(公告)日: 2014-06-04
发明(设计)人: 吴伟;姜志根;刘国权 申请(专利权)人: 浙江华立南湖制药有限公司
主分类号: B24B31/10 分类号: B24B31/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 314033 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型公开制药片剂抛光系统,其特征由压片机、筛片机、金属检测器、抛光机组成;一种片剂抛光系统是这样连接起来的:压片机→筛片机→金属检测器→抛光机。使用本实用新型能除去片剂表面的粉尘,使片面光洁美观,并能与车间现有的压片生产线相连接,在不增加压片操作工的前提下,减少3个铝包操作工,提高铝包效率,并能提高产品外观质量。
搜索关键词: 制药 片剂 抛光 系统
【主权项】:
制药片剂抛光系统其特征由压片机(1)、筛片机(2)、金属检测器(3)、抛光机(4)组成;所述的抛光机(4)由加料斗(5)、抛光机机身(6)、出料口(7)、底座连接件(8)组成;抛光机(4)的最低工作高度为69cm;其特征是抛光机(4)机身与底座(6)倾斜角度为25°;制药片剂抛光系统是这样连接起来的:压片机(1)通过输送带与筛片机(2)、金属检测器(3)、抛光机(4)组成抛光系统。 
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