[实用新型]一种用于激光加工的高功率半导体激光光源系统有效
申请号: | 201320676948.X | 申请日: | 2013-10-29 |
公开(公告)号: | CN203631973U | 公开(公告)日: | 2014-06-04 |
发明(设计)人: | 王敏;蔡万绍;王警卫;刘兴胜 | 申请(专利权)人: | 西安炬光科技有限公司 |
主分类号: | H01S5/40 | 分类号: | H01S5/40;H01S5/06 |
代理公司: | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人: | 胡乐 |
地址: | 710119 陕西省西安市高*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本实用新型提供一种用于激光加工的高功率半导体激光光源系统。该高功率半导体激光器光源系统的半导体激光器叠阵具有多个巴条,多个巴条整体划分为A、B两组,A、B两组巴条的偏振态一致;所述的整形模块包括二分之一波片、反射镜及偏振合束片;偏振合束片设置于A组巴条出光光路上,反射镜设置于B组巴条出光光路上,反射镜镜面与偏振合束片平行设置,所述二分之一波片设置于反射镜的入射光路或反射光路上,使得B组巴条的激光与A组巴条的激光在偏振合束片处形成合束出射。本实用新型光学系统结构简明,且反射镜和偏振合束片放置位置可紧靠半导体激光器,使得系统体积较小;选用偏振态一致的半导体激光器叠阵,加工方便,实现成本较低。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 激光 加工 功率 半导体 光源 系统 | ||
【主权项】:
一种用于激光加工的高功率半导体激光光源系统,包括半导体激光叠阵和整形模块;其特征在于:半导体激光器叠阵具有多个巴条,多个巴条整体划分为A、B两组,A、B两组巴条的偏振态一致;所述的整形模块包括二分之一波片、反射镜及偏振合束片;所述偏振合束片设置于A组巴条出光光路上,所述反射镜设置于B组巴条出光光路上,反射镜镜面与偏振合束片平行设置,所述二分之一波片设置于反射镜的入射光路或反射光路上,使得B组巴条的激光与A组巴条的激光在偏振合束片处形成合束出射。
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