[实用新型]一种具有防光反馈作用的高功率半导体激光加工光源系统有效
| 申请号： | 201320677555.0 | 申请日： | 2013-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN203631975U | 公开（公告）日： | 2014-06-04 |
| 发明（设计）人： | 刘晖;王敏;宋涛;刘兴胜 | 申请（专利权）人： | 西安炬光科技有限公司 |
| 主分类号： | H01S5/40 | 分类号： | H01S5/40;H01S5/068;H01S5/06;G02B27/28;G02B7/182;B23K26/064 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 胡乐 |
| 地址： | 710119 陕西省西安市高*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种具有防光反馈作用的高功率半导体激光加工光源系统，该系统能够完全消除激光加工中反馈光沿入射光路反射回激光器中，降低反馈光对半导体激光器输出性能以及寿命的影响。该高功率半导体激光加工光源系统的所有巴条偏振态一致，均发出o光；在半导体激光器叠阵出光方向设置有双折射晶体，所述双折射晶体对o光沿直线透射，对e光进行折射；在双折射晶体后设置四分之一波片或者两个八分之一波片，用以将光的偏振态旋转45°；位于半导体激光器叠阵与双折射晶体之间，在反方向经双折射晶体折射形成的光路上设置有吸光板。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 反馈 作用 功率 半导体 激光 加工 光源 系统 | ||
【主权项】：
一种具有防光反馈作用的高功率半导体激光加工光源系统，包括半导体激光器叠阵，其特征在于：所述半导体激光器叠阵的所有巴条偏振态一致，均发出o光；在半导体激光器叠阵出光方向设置有双折射晶体，所述双折射晶体对o光沿直线透射，对e光进行折射；在双折射晶体后设置四分之一波片或者两个八分之一波片，用以将光的偏振态旋转45°；位于半导体激光器叠阵与双折射晶体之间，在反方向经双折射晶体折射形成的光路上设置有吸光板。
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