[实用新型]大管径γ射线中心曝光支架有效
| 申请号： | 201320687774.7 | 申请日： | 2013-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN203641800U | 公开（公告）日： | 2014-06-11 |
| 发明（设计）人： | 黄明;郭玉炳;李广义;徐伟;李越成 | 申请（专利权）人： | 中国核工业第五建设有限公司 |
| 主分类号： | F16M11/20 | 分类号： | F16M11/20;F16M11/04 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 喻学兵 |
| 地址： | 201512 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型的目的在于提供一种大管径γ射线中心曝光支架，其便于固定源头，并且具有稳定性和焦距可调节的特点。为实现所述目的的大管径γ射线中心曝光支架，其特点是，包括源头导管、在源头导管至少两侧分别延伸的支撑组件，每一支撑组件包括支撑管、支撑杆以及撑杆垫片，支撑杆螺纹连接支撑管，以使支撑组件的整体长度可以调节，撑杆垫片连接在支撑杆的末端，用于接触管壁。 | ||
| 搜索关键词： | 大管径 射线 中心 曝光 支架 | ||
【主权项】：
大管径γ射线中心曝光支架，其特征在于，包括源头导管、在源头导管至少两侧分别延伸的支撑组件，每一支撑组件包括支撑管、支撑杆以及撑杆垫片，支撑杆螺纹连接支撑管，以使支撑组件的整体长度可以调节，撑杆垫片连接在支撑杆的末端，用于接触管壁。
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