[实用新型]基板显影处理装置有效

专利信息
申请号: 201320713736.4 申请日: 2013-11-13
公开(公告)号: CN203595896U 公开(公告)日: 2014-05-14
发明(设计)人: 龚金金;朱棋锋;张为腾;吴康成 申请(专利权)人: 上海和辉光电有限公司
主分类号: G03F7/30 分类号: G03F7/30
代理公司: 上海唯源专利代理有限公司 31229 代理人: 曾耀先
地址: 201508 上海市金山区*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型提供基板显影处理装置包括:一基座;滚轮组,安装于基座上,所述滚轮组由复数个互相平行并且沿水平方向一字排列的滚轮组成;滚轮组驱动装置,所述滚轮组驱动装置驱动所述滚轮组的滚轮转动;挡块,位于滚轮组两端的挡块,所述挡块下方设置有挡块升降机构;基板位置传感器。基板在显影过程中被放置于滚轮组上,通过滚轮驱动装置驱动滚轮不停正转反转使位于滚轮组上的基板沿水平方向晃动,通过晃动可以使基板表面的显影液的分布更加均匀。
搜索关键词: 显影 处理 装置
【主权项】:
一种基板显影处理装置,其特征在于主要包括:基座;滚轮组,安装于所述基座上,所述滚轮组包括互相平行并且沿水平方向一字排列的复数个滚轮;与所述滚轮组连接、用于驱动所述滚轮组中的滚轮转动的滚轮组驱动装置;挡块,位于滚轮组两端;设置于基座上、用于感应基板位置以供所述滚轮组驱动装置据此控制所述滚轮组转动方式的基板位置传感器。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海和辉光电有限公司,未经上海和辉光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201320713736.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top