[实用新型]测量标记有效

专利信息
申请号: 201320717895.1 申请日: 2013-11-14
公开(公告)号: CN203553154U 公开(公告)日: 2014-04-16
发明(设计)人: 岳力挽;蔡博修 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
主分类号: H01L23/544 分类号: H01L23/544;G03F7/20
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 100176 北京市大兴区*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型揭示了一种测量标记,包括四个第一标记,所述第一标记位于一曝光单元外的四个顶角处;第二标记,位于所述曝光单元外的一个顶角处,所述第二标记为“十”字形,由所述“十”字形分割出四个空白区域,位于该顶角处的第一标记位于所述空白区域中,且所述第二标记与该第一标记的相对位置固定不变。通过测量每个第一标记与第二标记之间的距离,既能够得到曝光单元之间的位置关系,又能够明确每个曝光单元自身的例如缩放、偏移、旋转等变动,从而能够达到较为精确和快速的对准。
搜索关键词: 测量 标记
【主权项】:
一种测量标记,用于晶片在扫描电子显微镜下的测量,其特征在于,包括:四个第一标记,所述第一标记位于一曝光单元外的四个顶角处;第二标记,位于所述曝光单元外的一个顶角处,所述第二标记为“十”字形,由所述“十”字形分割出四个空白区域,位于该顶角处的第一标记位于所述空白区域中,且所述第二标记与该第一标记的相对位置固定不变。
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