[实用新型]晶边缺陷检测装置有效
| 申请号： | 201320717902.8 | 申请日： | 2013-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN203659814U | 公开（公告）日： | 2014-06-18 |
| 发明（设计）人： | 张鹏;张珏;陈思安;刘寅杰 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/66 | 分类号： | H01L21/66;G01N21/01 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种晶边缺陷检测装置，包括工艺腔、晶圆升降机构、圆形轨道、探测单元以及用于对准晶圆的凹口的起始阻隔器，所述工艺腔分成上腔室和下腔室，所述轨道设置于所述上腔室中，所述晶圆升降机构设置于所述工艺腔内并能够将晶圆从下腔室抬升到上腔室的所述轨道的中心位置，并且使得所述晶圆和轨道在同一平面内，起始阻隔器设置于轨道的内侧，所述探测单元能够沿着所述轨道从所述起始阻隔器的一侧绕到另一侧以实现对晶边的扫描检测，其可以控制探测单元扫描不到晶圆的凹口，因此，无需操作人员判断是晶边破口还是正常的晶圆的凹口，不但使得检测简单，易实现，而且能准确反映晶边缺陷状况，更好的帮助分析缺陷的根本的原因，提高效率。 | ||
| 搜索关键词： | 缺陷 检测 装置 | ||
【主权项】：
一种晶边缺陷检测装置，其特征在于，包括工艺腔、晶圆升降机构、圆形轨道、探测单元以及用于对准晶圆的凹口的起始阻隔器，所述工艺腔分成上腔室和下腔室，所述轨道设置于所述上腔室中，所述晶圆升降机构设置于所述工艺腔内并能够将晶圆从下腔室抬升到上腔室的所述轨道的中心位置，并且使得所述晶圆和所述轨道在同一平面内，所述起始阻隔器设置于所述轨道的内侧，所述探测单元能够沿着所述轨道从所述起始阻隔器的一侧绕到另一侧以实现对晶边的扫描检测。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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