[实用新型]一种新型激光光致化学气相反应装置有效
申请号: | 201320718912.3 | 申请日: | 2013-11-14 |
公开(公告)号: | CN203639550U | 公开(公告)日: | 2014-06-11 |
发明(设计)人: | 秦文锋;杨文志;李学军 | 申请(专利权)人: | 中山市创科科研技术服务有限公司 |
主分类号: | C23C16/48 | 分类号: | C23C16/48 |
代理公司: | 中山市铭洋专利商标事务所(普通合伙) 44286 | 代理人: | 吴剑锋 |
地址: | 528400 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种新型激光光致化学气相反应装置,其特征在于:包括有反应炉,在所述的反应炉内设有石英管,在所述石英管一端上设有能让激光束透过的窗口,在所述石英管设有窗口一端上设有第一进气口和第二进气口,在所述石英管另一端上设有真空泵连接管,在所述石英管内设有基片架。本实用新型的目的是为了克服现有技术中的不足之处,提供一种结构简单,生产成本低,新型激光光致化学气相反应装置。 | ||
搜索关键词: | 一种 新型 激光 化学 相反 装置 | ||
【主权项】:
一种新型激光光致化学气相反应装置,其特征在于:包括有反应炉(1),在所述的反应炉(1)内设有石英管(2),在所述石英管(2)一端上设有能让激光束(3)透过的窗口(4),在所述石英管(2)设有窗口(4)的一端上设有第一进气口(5)和第二进气口(6),在所述石英管(2)另一端上设有真空泵连接管(7),在所述石英管(2)内设有基片架(8)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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