[实用新型]下降料道结构有效
| 申请号： | 201320744523.8 | 申请日： | 2013-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN203901478U | 公开（公告）日： | 2014-10-29 |
| 发明（设计）人： | D·克罗尔;G·冯 哈斯;R·施威;J·斯克利巴;M·格哈特 | 申请（专利权）人： | 迪芬巴赫机械工程有限公司 |
| 主分类号： | B27N1/02 | 分类号： | B27N1/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 张兰英 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种下降料道结构，该下降料道结构特别是用于胶合颗粒的装置，所述颗粒至少部分地由适于生产材料板的纤维和/或碎屑构成，其中，该下降料道结构具有下降料道，下降料道具有用于馈送颗粒的入口和用于输出颗粒的出口，并具有用于清洁下降料道的至少一个内壁的至少一个第一清洁装置，下降料道结构还具有用于清洁至少一个第一清洁装置的至少一个第二清洁装置。该下降料道结构可有效地避免在下降料道内形成牢固的附着物。 | ||
| 搜索关键词： | 下降 结构 | ||
【主权项】：
一种下降料道结构(10；20；30；40；50；60)，所述下降料道结构用于胶合颗粒(1)的装置，所述颗粒至少部分地由适于生产材料板的纤维和/或碎屑构成，其中，所述下降料道结构(10；20；30；40；50；60)具有下降料道(21；31；41；51；61)，所述下降料道具有用于馈送颗粒(1)的入口和用于输出颗粒(1)的出口，并具有用于清洁所述下降料道(21；31；41；51；61)的至少一个内壁(21a…21d)的至少一个第一清洁装置，其特征在于，所述下降料道结构(10；20；30；40；50；60)还具有用于清洁所述至少一个第一清洁装置的至少一个第二清洁装置。
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