[实用新型]用于非晶硒薄膜的蒸发镀膜机

摘要

本实用新型公开了一种用于非晶硒薄膜的蒸发镀膜机，包括真空密封的镀膜室，所述镀膜室内设有蒸发源和基片，其中，所述镀膜室的中间区域为镀膜区，左右两侧为控温区，所述蒸发源设置在镀膜区内，所述镀膜区和控温区内设有导轨，所述基片的背面贴有铜背板并通过基片架固定在导轨上。本实用新型提供的用于非晶硒薄膜的蒸发镀膜机，当基片温度由于蒸镀后升高且接近临界安全温度时，基片沿着导轨移动并停留在左端或右端控温区降温，在温度降至安全温度后再返回镀膜区继续镀膜，直至厚度达到要求且温度降至安全温度后出料，从而保证镀膜的均匀性，有效避免散热不均匀或冷却过快导致的基片损坏，提高产品合格率。

主权项

一种用于非晶硒薄膜的蒸发镀膜机，包括真空密封的镀膜室（1），所述镀膜室（1）内设有蒸发源（2）和基片（3），其特征在于，所述镀膜室（1）的中间区域为镀膜区，左右两侧为控温区，所述蒸发源（2）设置在镀膜区内，所述镀膜区和控温区内设有导轨（11），所述基片（3）的背面贴有铜背板（8）并通过基片架（4）固定在导轨（11）上。