[实用新型]用于薄膜太阳能电池衬底上的微纳织构有效

专利信息
申请号: 201320757553.2 申请日: 2013-11-27
公开(公告)号: CN203707146U 公开(公告)日: 2014-07-09
发明(设计)人: 解欣业;王伟;吴军;史国华;李强;初宁宁;吕忠明;邓晶 申请(专利权)人: 威海中玻光电有限公司
主分类号: H01L31/0236 分类号: H01L31/0236
代理公司: 威海科星专利事务所 37202 代理人: 于涛
地址: 264200 *** 国省代码: 山东;37
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摘要: 实用新型涉及薄膜太阳能电池技术,具体地说是一种用于薄膜太阳能电池衬底上的微纳织构,其征是在电池衬底上利用传统压印技术制作具有微纳米量级的织构,形成织构层,织构层为均匀、大面积连续覆盖层,电池衬底包括玻璃或聚酯膜或金属箔片,织构层具有微纳米级,其横向尺寸在100nm-1000nm,纵向尺寸从纳米量级到微米量级,所述衬底与织构层间沉积阻挡层和导电薄膜,本实用新型所述衬底优势在于可以在廉价衬底上提供精确的、大面积的、低成本的光学织构,同时可按要求调整印模上织构层的形状、间距和大小,制备所需的衬底织构层,提高光的利用率并降低生产成本。 
搜索关键词: 用于 薄膜 太阳能电池 衬底 微纳织构
【主权项】:
一种用于薄膜太阳能电池衬底上的微纳织构,其征是在电池衬底上利用传统压印技术制作具有微纳米量级的织构,形成织构层,织构层为均匀、大面积连续覆盖层,电池衬底包括玻璃或聚酯膜或金属箔片,织构层具有微纳米级,其横向尺寸在100nm‑1000nm,纵向尺寸从纳米量级到微米量级,所述衬底与织构层间沉积阻挡层和导电薄膜。
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