[实用新型]中心波长2230nm的水分测试滤光片有效

专利信息
申请号: 201320777829.3 申请日: 2013-11-29
公开(公告)号: CN203551822U 公开(公告)日: 2014-04-16
发明(设计)人: 王继平;吕晶;胡伟琴 申请(专利权)人: 杭州麦乐克电子科技有限公司
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20
代理公司: 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 代理人: 周豪靖
地址: 311188 浙江省杭州市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型所设计的一种测试精度高、能极大提高信噪比的中心波长2230nm的水分测试滤光片,包括以BK7为原材料的基板,以Si、SiO为第一镀膜层和以Si、SiO2为第二镀膜层,且所述基板位于第一镀膜层和第二镀膜层之间,该中心波长2230nm的水分测试滤光片,其中心波长2230±5nm,其在水分测量过程中,可大大的提高信噪比,提高测试精准度。该滤光片的峰值透过率Tp≥80%、带宽=20±5nm,1000~3000nm(除通带外),Tavg<0.5%。
搜索关键词: 中心 波长 2230 nm 水分 测试 滤光
【主权项】:
一种中心波长2230nm的水分测试滤光片,包括以BK7为原材料的基板,以Si、SiO为第一镀膜层和以Si、SiO2为第二镀膜层,且所述基板位于第一镀膜层和第二镀膜层之间,其特征是:所述第一镀膜层由内向外依次排列包含有:60nm厚度的Si层、116nm厚度的SiO层、67nm厚度的Si层、108nm厚度的SiO层、66nm厚度的Si层、139nm厚度的SiO层、67nm厚度的Si层、101nm厚度的SiO层、85nm厚度的Si层、150nm厚度的SiO层、62nm厚度的Si层、117nm厚度的SiO层、89nm厚度的Si层、191nm厚度的SiO层、89nm厚度的Si层、187nm厚度的SiO层、100nm厚度的Si层、163nm厚度的SiO层、114nm厚度的Si层、186nm厚度的SiO层、116nm厚度的Si层、177nm厚度的SiO层、78nm厚度的Si层、249nm厚度的SiO层、146nm厚度的Si层、612nm厚度的SiO层、154nm厚度的Si层、327nm厚度的SiO层、282nm厚度的Si层和131nm厚度的SiO层;所述第二镀膜层由内向外依次排列包含有:156nm厚度的Si层、378nm厚度的SiO2层、156nm厚度的Si层、2268nm厚度的SiO2层、156nm厚度的Si层、378nm厚度的SiO2层、156nm厚度的Si层、378nm厚度的SiO2层、156nm厚度的Si层、378nm厚度的SiO2层、156nm厚度的Si层、1512nm厚度的SiO2层、156nm厚度的Si层、378nm厚度的SiO2层、156nm厚度的Si层、378nm厚度的SiO2层、292nm厚度的Si层和230nm厚度的SiO2层。
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